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  • 電子級三甲基氯硅烷工藝裝置
    電子級三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。 其主要儀表及管閥件均采用高性能產品,裝置非標采用耐腐蝕材質。PLC 系統采集確保操作人員安全。 裝置的整體水平要求自動化程度高,數據精確度及重復性好,安全可靠 并能長周期穩定運行
    01

    更新日期

    2024-06-21
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  • 加氫微反裝置
    加氫微反裝置廣泛適用于流動合成反應,可持續滿足您需求的連續流動化學系統,靈活,精確,高生產力。
    01

    更新日期

    2024-06-20
    02

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  • 光熱微反裝置
    巖征儀器 光熱微反裝置又叫做 高壓微反裝置,加氫微反裝置??蓪崿F汽液固自動地從汽液物料輸入到在線取樣輸出,進入色譜/質譜或紅外光譜儀全過程的記錄、分析。裝置包含多路氣體,多路VOC液體,以及在線氣和液ppm級配氣系統、可視冷凝、分離器和自動放液系統組成。
    01

    更新日期

    2024-06-20
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  • 微型反應裝置
    巖征儀器微型反應裝置設有遠程控制功能,一臺電腦即可隨時監控設備反應情況,數據可導出分析。
    01

    更新日期

    2024-06-20
    02

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  • 微反裝置系列
    微反裝置系列巖征微型平行反應釜在YZQR系列平臺上開發而成,單個高壓釜腔體內可放置多組5ml-20ml微反應器,可用作基本的多樣品高壓篩選,設計緊湊,簡單易用。產品標配加熱控制功能,也可直接放置于加熱攪拌器或油浴循環槽中,巖征微型平行反應釜具有低成本,低能耗和高產出等系列特性,使其成為性價比*的大規?;瘜W篩選系統。
    01

    更新日期

    2024-06-20
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    2932
  • 微反裝置
    微反裝置適用于實驗室工作臺面,體積小,操作簡便,功能強大,控溫準,升溫快,較高工作壓力:10mpa;較高工作溫度:300攝氏度
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    更新日期

    2024-06-20
    02

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